真空镀膜机的工作原理

　　真空镀膜机主要是指一种需要在高真空度下进行的镀膜，种类很多，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。主要思想是将其分为蒸发和溅射。

　　真空镀膜机的工作原理如下:

　　在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的重要因素。因此，在评估薄膜样品的性能时，需要测试不同厚度的薄膜样品的性能。在真空镀膜的情况下，这通常需要几次样品制备。但这种方式存在两个问题:首先，对于不同时间生长的样品，仪器的条件是不同的，这样影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度;其次，真空镀膜实验需要再次获得真空，非常耗时。增加了生产和检测的成本。

　　因此，提供了一种多功能磁控溅射镀膜系统，该系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成。它可以在高真空蒸发室内完成薄膜蒸发，在手套箱的高纯惰性气体气氛中存储和制备样品，并对蒸发后的样品进行检测。蒸发和手套箱的结合实现了蒸发、封装、测试等过程的全封闭制作，使薄膜生长和器件制备的全过程高度集成到一个环境气氛可控的完整系统中，消除了有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素的影响，保证了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。