真空镀膜机薄膜均匀性概念

　　1.真空镀膜设备真空镀膜机的厚度均匀性也可以理解为粗糙度。在光学薄膜的尺度上(即以1/10波长为单位，约100A)，真空镀膜的均匀性相当好，粗糙度可以轻松控制在可见光波长的1/10以内，也就是说薄膜的光学特性没有障碍。但如果是指原子层尺度的均匀性，也就是说要达到10A甚至1A的表面平坦度，具体的控制因素下面会根据不同的镀膜进行详细说明。

　　2.真空镀膜设备化学成分的均匀性真空镀膜机:也就是说，在薄膜中，化合物的原子成分会因尺寸过小而容易产生不均匀的特性。对于SiTiO3薄膜来说，如果镀膜工艺不科学，那么实际表面成分不是SiTiO3，可能是其他比例，镀膜不是想要的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量。具体因素也在下面给出。

　　3.真空镀膜设备晶格有序性真空镀膜机:这决定了薄膜是单晶、多晶和非晶，是真空镀膜技术的热点问题。

　　真空镀膜设备真空镀膜机主要分为蒸发镀膜和溅射镀膜两大类，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、溶胶-凝胶法等。

　　蒸发镀膜:一般是将靶材加热，使表面成分以原子团或离子的形式蒸发。

　　真空镀膜设备真空镀膜机的厚度均匀性主要取决于:

　　1。基底和靶的晶格匹配度

　　2.基板表面温度

　　3.蒸发功率和速率

　　4.真空度

　　5.涂层时间和厚度。

　　成分均匀性:蒸镀的成分均匀性不容易保证，具体可以控制的因素同上。但由于原理的限制，对于非单组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性并不好。

　　颗粒均匀度:1。晶格匹配度2。基板温度3。蒸发率