真空电镀设备膜厚的不均匀问题

　　监视器再精确，也只能控制真空室中单点的膜厚，一般来说就是工件架的中间位置。如果真空镀膜设备的这个位置的薄膜厚度不是绝对均匀的，那么远离中心的衬底就不能获得均匀的厚度。虽然屏蔽可以消除长期的不均匀性，但有些膜厚变化是由于蒸发源的不稳定或薄膜材料的性能不同造成的，几乎不可能消除。然而，适当选择真空室结构和蒸发源可以使这些影响最小化。

　　在过去的几年里，越来越多的用户要求涂层系统制造商提供高性能、小规格、简单的光学涂层系统。与此同时，用户对性能的要求并没有降低，反而有所提高，尤其是在膜密度和吸水后光谱变化最小化方面。

　　现在，系统的平均尺寸已经减小，应用小型设备进行光学涂层生产也变成了纯粹的技术问题。因此，选择现代光学涂层系统的关键在于仔细考虑以下因素:涂层产品的预期性能、基底的尺寸和物理特性，以及确保高度一致的工艺所需的所有技术因素。