真空镀膜机的作业原理

　　真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多种类，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分红蒸腾和溅射两种。

　　真空镀膜机的作业原理如下：

　　在镀膜领域，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜功用的一个重要因素。因此，当点评某薄膜样品的功用时，需求检测该薄膜样品不同厚度下的功用。对于真空镀膜的情形，这往往需求进行多次试样的制备。而这样多次制备样品存在两个问题：首先，不同次生长的样品，仪器的状况不同，以至于影响薄膜样品功用的因素可能不仅仅是厚度;其次，真空镀膜试验装取样品需求重新进行真空的获得，十分耗时。增加了出产和检测的本钱。

　　因此，供给一种多功用磁控溅射镀膜系统，本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体气氛下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。蒸腾镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜生长和器材制备过程高度集成在一个完整的可控环境气氛的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高功用、大面积有机光电器材和电路的制备。

　　多功用磁控溅射镀膜系统首要用途：用于制备各种金属膜、半导体膜、介质膜、磁控膜、光学膜、超导膜、传感膜以及各种特别需求的功用薄膜。