真空镀膜主要方法

　　真空镀膜应用是真空应用的一大分支，广泛应用于光学、电子、理化仪器、包装、机械和表面处理技术。为了让大家更好的了解真空镀膜的应用，今天边肖详细介绍几种主要的真空镀膜方法，希望对大家有用!真空镀膜的应用简单地理解为在真空环境下，通过蒸发、溅射和后续冷凝，在金属、玻璃、陶瓷、半导体和塑料零件上镀上金属膜或涂层。

　　与传统的镀膜方法相比，真空镀膜属于干法镀膜，其主要方法有以下几种:

　　1.真空蒸发

　　其原理是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发材料使其蒸发或升华，蒸发的离子流直接射向基片，在基片上沉积固体薄膜。

　　2.溅射涂层

　　溅射镀膜是一种真空条件，在阴极施加2000V高压激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极喷出原子。溅射的原子通过惰性气氛沉积在衬底上形成薄膜。

　　3.离子电镀法

　　即干式螺杆真空泵制造商已经推出的真空离子涂层。它是在上述两种真空镀膜技术的基础上发展起来的，所以具有两者的工艺特点。在真空条件下，工作气体或蒸发物质(膜材料)通过气体放电被部分电离，蒸发物质或其反应物在离子轰击下沉积在基片表面。在成膜的过程中，衬底总是受到高能粒子的轰击，这使得它非常干净。

　　4.真空卷绕涂层

　　真空镀膜是通过物理气相沉积在柔性基板上进行连续镀膜的技术，以实现柔性基板的某些功能性和装饰性。